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- 原子层沉积技术:从制造原理到装备应用
- 作者:陈蓉,单斌,曹坤,刘潇
- 策划编辑:俞道凯,张少奇
- ISBN:978-7-5772-1800-7
- 图书开本:B5
- 出版日期:2025-08-28
- 定价:98.00元
-
新形态教材:
- 二维码资源
- 所属丛书:集成电路制造工艺与装备技术丛书
图书简介
本书围绕原子层沉积技术,针对原子层沉积工艺、纳米结构可控制造方法、智能制造装备研发、应用等方面进行阐述,全书共分为9章。其中第1章阐述了原子层沉积技术的基本原理与工艺,第2-3章分别介绍了平面型原子层沉积、粉末原子层沉积的方法与装备;第4章对选择性原子层沉积工艺方法进行了详细介绍;第5-9章讨论了原子沉积技术在光致发光、电致发光、柔性封装、热催化、能源材料等领域的应用,是前述章节理论方法的验证与拓展。本书本书可作为半导体、泛半导体、能源催化等领域中从事材料、工艺和装备方面工作的研究人员和工程技术人员的参考用书,也可作为高等院校先进电子制造、能源环境相关专业的规划教材和教辅用书。
书籍目录
第1章原子层沉积基本原理与工艺/1
1.1原子层沉积基本概念与历史发展/1
1.1.1原子层沉积技术的基本概念/2
1.1.2ALD技术的特点与优势/4
1.1.3原子层沉积技术的发展历程/6
1.2原子层沉积表面反应原理/9
1.2.1前驱体分子传质扩散/10
1.2.2前驱体吸附和反应动力学/15
1.2.3脉冲和吹扫时间/18
1.2.4表面活性位点和空间位阻效应/19
1.2.5薄膜生长模式及沉积速率的变化/22
1.2.6原子层沉积形核模型/24
1.3原子层沉积工艺调控原理/31
1.3.1前驱体与共反应物/32
1.3.2沉积温度窗口/33
1.3.3薄膜厚度控制/34
1.3.4饱和吸附/脱附时间/35
1.3.5薄膜质量/35
1.4典型原子层沉积工艺/36
1.4.1原子层沉积材料种类/36
1.4.2多元氧化物原子层沉积工艺/42
1.4.3高深宽比及多孔大比表面积基底沉积工艺/43
1.4.4微纳米颗粒表面包覆工艺/48
本章参考文献/50
第2章原子层沉积过程分析/53
2.1ALD数值建模方法/54
2.1.1ALD过程建模/54
2.1.2面向反应器的ALD过程分析/59
2.1.3高深宽比纳米结构与宏观反应器耦合研究/63
2.2空间隔离ALD建模分析/67
2.2.1空间隔离ALD系统仿真建模方法/67
2.2.2空间隔离ALD流域空间优化和喷头设计/69
2.2.3空间隔离ALD基底静态与动态流域研究/75
2.3薄膜沉积工艺研究/84
2.3.1面向高深宽比纳米结构的ALD工艺研究/84
2.3.2面向米级幅宽的空间隔离ALD工艺研究/91
本章参考文献/104
第3章微纳米颗粒原子层沉积技术与装备/106
3.1微纳米颗粒流化状态分析/107
3.1.1微纳米颗粒团聚现象/107
3.1.2微纳米颗粒的流化原理/109
3.1.3不同颗粒的分类及其流化现象/110
3.2基于欧拉两相流的颗粒原子层沉积计算/114
3.2.1基于计算流体力学的原子层沉积建模/114
3.2.2基于欧拉两相流的流化床模型/117
3.2.3基于欧拉模型的流化床模拟计算/119
3.3离心旋转式微纳米颗粒包覆仿真与装备研发/120
3.3.1离心流化技术/120
3.3.2离心流化式ALD系统研制/122
3.3.3流化实验与特性分析/125
3.4超声流化式微纳米颗粒包覆仿真与装备研发/135
3.4.1耦合颗粒运动与表面反应的流化床ALD模型/135
3.4.2超声辅助的颗粒动态去团聚机理探究/138
3.4.3超声辅助流化床ALD的颗粒包覆过程研究/146
3.4.4前驱体传质与吹扫效率/149
3.4.5超声包覆工艺参数的定量优化/151
本章参考文献/155
第4章选择性原子层沉积的原理与工艺/158
4.1选择性原子层沉积理论研究/161
4.1.1固有选择性沉积实验数据分析/162
4.1.2抑制剂辅助选择性沉积实验数据分析/163
4.1.3形核模型与表面反应动力学的耦合/165
4.2基于表面特性诱导固有选择性原子层沉积研究/168
4.2.1酸碱度诱导的选择性沉积研究/168
4.2.2电负性诱导的选择性沉积研究/175
4.2.3还原氧化循环耦合选择性沉积工艺/178
4.3基于抑制剂辅助的选择性沉积工艺研究/186
4.3.1自组装分子层对不同前驱体的阻隔性研究/187
4.3.2自组装分子层结合前处理提高选择性研究/190
4.3.3分子抑制剂辅助选择性沉积拓展研究/197
4.4金属的选择性沉积与后处理工艺研究/200
4.4.1ALD制备金属钌薄膜工艺调控/201
4.4.2金属Ru ALD短脉冲工艺优化/203
4.4.3缺陷迁移消除的后处理工艺优化/205
本章参考文献/209
第5章光致发光材料表面的ALD调控与稳定化/214
5.1铅卤钙钛矿纳米晶的相变过程及稳定性研究/215
5.1.1双酸共辅助钝化策略稳定化研究/215
5.1.2纳米晶相变行为研究/223
5.2无机氧化物低温原子层沉积包覆技术/231
5.2.1低温氧化硅等离子体增强原子层沉积工艺/231
5.2.2等离子体增强原子层沉积包覆机理分析和应用/236
5.3两步混合钝化策略提升光致发光薄膜稳定性/240
5.3.1卤素钝化与原子层沉积包覆对发光性能的影响/240
5.3.2有机配体与前驱体反应机理研究/243
5.3.3稳定性测试及分析/249
5.4复合微球结构原子层沉积包覆稳定化方法/252
5.4.1原子层沉积包覆前后结构及性能变化/252
5.4.2微球稳定性测试及机理分析/255
5.4.3其他微球原子层沉积包覆稳定化方法/260
本章参考文献/264
第6章发光二极管器件功能层的ALD调控/267
6.1界面器件发光层ALD钝化/268
6.1.1钙钛矿量子点的ALD氧化铝改性/268
6.1.2钙钛矿量子点发光二极管的界面钝化/273
6.2电子传输层的ALD制备/285
6.2.1原子层沉积电子传输层薄膜特性研究/285
6.2.2原子层沉积对钙钛矿量子点薄膜的影响/288
6.2.3单电子传输层的钙钛矿量子点发光二极管性能研究/292
6.2.4双电子传输层的钙钛矿量子点发光二极管的性能研究/294
6.3空穴注入层界面调控及结构优化/301
6.3.1空穴传输层薄膜制备工艺研究/301
6.3.2不同工艺制备薄膜性能对比研究/303
6.3.3薄膜导电性、价带位置及透光率对比研究/306
6.3.4基于NiOx原子层沉积的薄膜器件性能研究/307
本章参考文献/311
第7章封装薄膜原子尺度制备及应用/314
7.1高阻隔无机叠层薄膜制备及应用/315
7.1.1基于空间隔离原子层沉积无机复合薄膜的制备及应用/315
7.1.2近零应力纳米叠层封装薄膜的制备及应用/325
7.2可弯折柔性无机有机叠层薄膜的制备及应用/332
7.2.1无机有机复合叠层封装薄膜制备与性能研究/332
7.2.2叠层封装薄膜中性轴调控与弯折性能提升/334
7.2.3有机发光二极管显示集成应用与可靠性测试/340
7.3可弯折/可拉伸柔性衬底改性及性能优化/342
7.3.1原子层渗透柔性衬底抗弯折性能研究/342
7.3.2纳米颗粒掺杂柔性衬底抗拉伸性能的研究/352
7.3.3紫外固化可拉伸柔性衬底水汽阻隔性能的研究/360
本章参考文献/366
第8章原子层沉积催化剂精细制备与构效关系建立/369
8.1高度分散团簇的可控制备/370
8.1.1亚纳米贵金属团簇的制备/370
8.1.2价态可控贵金属团簇的制备/372
8.1.3贵金属团簇氧化物功能界面的制备/377
8.2包覆型结构构筑/381
8.2.1网状包覆型结构的构筑/381
8.2.2核壳型结构的构筑/388
8.3表面位点选择性修饰/393
8.3.1晶面选择性修饰/393
8.3.2活性位点的钝化修饰/396
8.3.3双位点的协同修饰/400
8.3.4棱边位点的功能化修饰/404
8.4催化限域构型设计/408
8.4.1阱嵌型界面结构的设计/408
8.4.2纳米阱界面结构的设计/413
8.4.3限域型双活性位点的设计/419
本章参考文献/425
第9章原子层沉积在能源材料领域的应用/427
9.1含能材料超薄包覆稳定化研究/428
9.1.1三氢化铝颗粒稳定化方法/428
9.1.2氧化钛阻隔层制备与性能研究/433
9.1.3纳米铝粉稳定化方法/439
9.1.4氧化锆阻隔层制备与性能研究/444
9.2锂电池电极材料改性及性能优化/446
9.2.1氧化铝包覆层稳定正极材料及锂电池性能的提升/446
9.2.2氧化硼包覆层稳定正极材料及锂电池性能提升/452
9.3燃料电池贵金属催化剂改性及性能优化/463
9.3.1原位构筑金属间化合物及燃料电池性能提升/463
9.3.2铂颗粒表面修饰与氧还原性能的提升/476
9.4光电材料改性及性能优化/487
9.4.1金属氧化物复合材料异质结构筑及光电化学性能提升/487
9.4.2大面积倒置钙钛矿太阳能组件中的电子传输层性能提升/493
本章参考文献/500

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